錦正茂高溫磁場退火爐的用途及技術參數

錦正茂高溫磁場退火爐的用途及技術參數

錦正茂高溫磁場退火爐是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙極性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。

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產品概述：

北京錦正茂科技有限公司生產的高溫真空磁場加熱爐系統，是有升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙極性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。

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該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進行粗抽，達到可以開啟分子泵的極限真空時，在開啟分子泵進行高真空的抽取，達到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值，通過閉循環反饋調節，使設備內樣品的溫度自動控制并穩定在某一個溫度值，軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。

磁場控制：用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小，由高精度高斯計讀取實際磁場值，再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源，通過電源內部軟件處理后，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實現用戶所需要的磁場，并實時顯示在軟件上；

溫度控制：通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值，計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器。控制器通過溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區的實際溫度值，并通過其內部設置的模糊控制PID調節輸出電流的大小，總而使溫度值穩定在某一精度范圍內，從而實現用戶所需要的不同溫度。

真空環境：通過分子泵組獲得真空環境，由高真空全量程真空計顯示并監控，并實時的將檢測結果傳遞給計算機。

退火過程：在強磁場（或無磁）環境下對樣品進行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設定）并保持在該溫度，再持續加一個磁場（可隨時變化），達到用戶的目的后，關閉磁場，關閉加熱環境，冷卻到室溫。

樣品環境：高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強磁場、高真空、高溫環境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環境，滿足不同樣品在不同環境下的測試要求。

適應范圍：需在高溫、高真空、強磁場環境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

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主要技術指標：

※ 真空室及主要零部件材質均為304無磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統為分子泵組；真空測量為數顯全量程真空計；

※ 真空度及漏率：① 真空室極限真空度6′10-5Pa(冷態)；②漏率<10-11Pa.L/s，真空度隨著溫度變化，會出現波動，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；